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第58章 半导体刻蚀（第2页）

刻蚀，顾名思义，用腐蚀的方法进行雕刻，在晶圆上雕刻出线路图。

刻蚀设备，制造难度虽然比不上光刻机，但一样是半导体制造领域制造难度最高的几种设备之一，尤其是高等级的刻蚀设备，目前世界上也就泛林、应用材料、东京电子这三家可以做。

而这三家刻蚀设备制造公司，林志尧都在里面工作过，而且都是团队的核心人物、领导人物，是它们刻蚀设备能够成功并且迈向高端的最大功臣！

“现在的刻蚀技术按工艺划分可分为湿法刻蚀和干法刻蚀。”

“湿法刻蚀包括化学刻蚀和电解刻蚀，使用的是液体试剂，所以成本较低，操作简单，应用范围较广。但是，这种方法容易出现边侧形成斜坡、要求冲洗或干燥等步骤，不适合越来越先进的制程。”

“干法刻蚀就不同了，它的成本是很高的，选择的材料刻蚀性差，但是没有湿法刻蚀的缺点，通常是用离子束、高密度等离子体、反应离子等来刻蚀，刻蚀的侧面具有各向异性，具有较小的光刻胶脱落的优点，刻蚀率也高，所以现在的先进制程的小特征尺寸精细刻蚀中，干法刻蚀有优势。”

……

原本应该激烈谈判的现场，赫然变成了一场技术交流会。

等讲解完，林志尧才发现自己似乎讲的太多了，不由失笑摇头。

好在陈副校长、周副主任、赵默等人都一脸认真的在倾听，每个人都大有收获的样子，林志尧这才暗松了口气。

“所以，反应离子源的问题虽然解决了，但其实对于国产刻蚀设备的制造来说只是万里长征第一步，而且反应离子刻蚀还需要更进一步的改进？”

赵默忽然若有所思的说道。

林志尧点头道：“是这样的。”

“竟然如此复杂！”

<divclass="contentadv">赵默暗暗震惊。

都说半导体是人类现代工业文明的结晶，他一直没什么概念，注意力和绝大部分的国人一样都集中在光刻机上。现在他知道了，的确是结晶，在半导体制造领域几乎没什么存在感的刻蚀设备竟然都如此的复杂，更别说光刻机了。

同时，他也知道了，各种科学原理的确代表了人类现代文明，但实际的工业制造一样代表着人类现代文明，不存在谁比谁高。

能够把这些原理打造出各种各样的机器设备，服务于现代文明，源源不断的为人类创造财富，某种程度上甚至更加的重要！

“真不容易啊~”

陈副校长感叹道，他是行政校长，不是学术类的，所以对这些详细的技术问题是第一次听说。

随后，他好奇的询问了一句：“我们国家在这一领域和国外的差距有多大？”

林志尧不假思索回答道：“二三十年吧，如果现在奋起直追，我相信在十年内可以把差距缩小到十年以内。”

“……”

陈副校长感到无比的惊愕，然后就继续这个话题了。

不太愉快的话题还是不要长谈的好。

赵默倒是无所顾虑，他知道，这个差距在的确很大，甚至在未来十年内都没什么改变。但是，这对于一个拥有举国体制，可以集中力量办大事的红色国度来说，这些都是可以解决的，因为半导体制造逐渐接近极限，这就给了我们追上来的可能。

“半导体制造设备这个领域还是大有可为的。”